膜厚可控性和重復性好控制靶電流可以控制膜厚通過濺射時間控制膜厚薄膜與基片的附著力強高能量的濺射原子產生不同程度的注入現象，形成一層偽擴散層基片在成膜過程中始終在等離子區中被清洗和激活，清除了附著力不強的濺射原子，凈化且激活基片表面。可以制備特殊材料的薄膜可濺射幾乎所有的固體（包括粒狀、粉狀的物質），不受熔點的限制。使用不同材料同時濺射制備混合膜、化合膜?？芍苽溲趸锝^緣膜和組分均勻的合金膜?？赏ㄈ敕磻獨怏w，采用反應濺射方法制備與靶材*不同的新的物質膜。如用硅靶制作二氧化硅絕緣...

現在市面上有多種晶振片，有進口的有國產的，有鍍金的、鍍銀的、還有銀鋁合金的，如果選擇確實是我們廣大用戶想知道的，以下就是我們選擇的一個參考。晶體的質量和壽命不僅影響速率和厚度測量的準確性，更重要的是還決定著受控制的過程能否成功完成。INFICON石英晶體具有經過實踐驗證的品質和可靠性，其在各種材料、應用和行業中的無數次成功的過程運行充分證明了這一點。我們的6MHz晶體可與所有INFICON控制器和監控器結合使用。而5MHz晶體只能與5MHz儀器結合使用；與有些INFICON儀...

石英晶體膜厚控制儀的特點：1、標準RS-232和USB（有以太網選件）。2、貯存容量高至100個工藝過程，1，000個膜層，50個膜系。3、用單傳感器或多傳感器監測源材料，提供的源分布監測。4、高亮度，VGA活性點陣彩色LCD顯示器–可顯示英文或中文。5、易設置和操作，有“快速設置”菜單，6個上下文-敏感的按鈕，和方便的參數設定旋鈕。6、Window程序用于開發，測試，和下載工藝過程，和將儀器數據記錄至您的PC上，用于過程分析與質量控制。7、的過程控制，尤其用于低淀積率，在1...

閥作為液氣壓系統中的重要元件，實現對流體壓力、流量和流向的控制，直接影響著液氣壓系統的工作過程和工作性能。隨著液氣壓技術從傳統應用領域向空間、信息和生物醫學等新技術領域的不斷拓展，對液氣壓系統的尺寸、控制精度、響應速度和可靠性等各個方面都提出了更高的要求。傳統的控制閥較難滿足這樣的要求，因此對于閥的革新成為了國內外科研機構和企業的研究開發熱點。壓電閥zui早出現在20世紀90年代SIEMENS公司推出的SPIARTPS智能閥門定位器中。它利用壓電晶體的逆壓電效應，在實際應用當...

質量流量計是一種直接而精密地測量流體質量流量的新穎儀表，以結構主體采用兩根并排的U形管，讓兩根管的回彎部分相向微微振動起來，則兩側的直管會跟著振動，即它們會同時靠攏或同時張開，即兩根管的振動是同步的，對稱的，如果在管子同步振動的同時，將流體導入管內，使之沿管內向前流動，則管子將強迫流體與之一起上下振動。這樣就直接測量了質量流量質量流量計優點：高性價比。響應速度快—小于2秒。的可靠性—使用一年以上，零點漂移小于滿量程的0.5%。易于集成—標準接頭和尺寸。出眾的效果—高品質膜層與...

氦質譜檢漏儀，是用氦氣為示漏氣體的專門用于檢漏的儀器。它具有性能穩定、靈敏度高的特點。是真空檢漏技術中靈敏度zui高，使用zui普遍的檢漏儀器。氦質譜檢漏儀的應用：元件檢漏的要求，靈活性測試，高靈敏度，快速于的結果，快速啟動，移動性和系統的可靠性。半導體工藝設備的維護，該設備本身帶或未帶有真空泵工藝氣體系統的檢測與安裝元器件在組裝前的漏率測試要求高抽速、高靈敏度以及清潔測試條件的應用場合氦質譜檢漏儀的原理：氦質譜檢漏儀是根據質譜學原理，用氦氣作示漏氣體制成的氣密性檢測儀器。由...

隔膜真空泵設計先進，工作效率高，使用壽命長，是集高新技術于一體的換代產品。隔膜真空泵為蒸發、蒸餾、結晶、干燥、升華、過濾減壓、脫氣提供真空條件，以及溶媒回收、各種劇毒，易燃易爆、強酸、強堿抽取。除適用于循環水式真空泵和旋片式真空泵的適用場合外，還用于醫療醫藥產品分析、精細化工、生化制藥、食品檢驗、*刑偵技術等領域，是為其精密色譜儀器配套的產品，也是實驗室*的裝備之一。隔膜真空泵的極限壓強泵的極限壓強單位是Pa，是指泵在入口處裝有標準試驗罩并按規定條件工作，在不引入氣體正常工作...

真空鍍膜主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發和濺射兩種。需要鍍膜的被成為基片，鍍的材料被成為靶材?；c靶材同在真空腔中。蒸發鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發出來，并且沉降在基片表面，通過成膜過程（散點－島狀結構-迷走結構-層狀生長）形成薄膜。對于濺射類鍍膜，可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團或離子形式被濺射出來，并...

真空開關測試儀又稱高壓開關機械特性測試儀，高壓開關測試儀，高壓開關特性測試儀，跟著科學技術的發展，人們對用電的安全可靠性要求越來越高，高壓斷路器在電力系統中擔負著控制和保護的雙重任務，其機能的優劣直接關系到電力系統的安全運行。機械特性參數是判定斷路器機能的重要參數之一。真空開關測試儀是我公司依據的《高壓交流斷路器》GB1984-2003為設計底本，參照中華人民共和國電力行業尺度《高電壓測試設備通用技術前提》第3部門，DL/T846.3-2004高壓開關綜合測試儀為設計依據，為...

真空鍍膜機操作程序具體操作時請參照該設備說明書和設備上儀表盤指針顯示及各旋鈕下的標注說明。1、檢查真空鍍膜機各操作控制開關是否在"關"位置。2、打開總電源開關，設備送電。3、低壓閥拉出。開充氣閥，聽不到氣流聲后，啟動升鐘罩閥，鐘罩升起。4、安裝固定鎢螺旋加熱子。把PVDF薄膜和鋁蓋板固定在轉動圓盤上。把鋁絲穿放在螺旋加熱子內。清理鐘罩內各部位，保證無任何雜質污物。5、落下鐘罩。6、啟動抽真空機械泵。7、開復合真空計電源（復合真空計型號：Fzh-1A）。a.左旋鈕“1”順時針旋...

真空鍍膜機要分類有兩個大種類：蒸發沉積鍍膜和濺射沉積鍍膜，具體則包括很多種類，包括真空離子蒸發，磁控濺射，MBE分子束外延，溶膠凝膠法等等。一、對于蒸發鍍膜：一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發出來。厚度均勻性主要取決于：1、基片材料與靶材的晶格匹配程度2、基片表面溫度3、蒸發功率，速率4、真空度5、鍍膜時間，厚度大小。組分均勻性：蒸發鍍膜組分均勻性不是很容易保證，具體可以調控的因素同上，但是由于原理所限，對于非單一組分鍍膜，蒸發鍍膜的組分均勻性不好。晶向均勻性：...

將滅弧室兩觸頭拉開一定的開距，施加脈沖高壓,將滅弧室置于螺線管線圈內或將新型π型線圈置于滅弧室外側，向線圈通以大電流從而在滅弧室內產生與高壓同步的脈沖磁場。這樣，在脈沖強磁場和強電場的作用下，滅弧室中的離子作螺旋運動，并與殘余氣體分子發生碰撞電離，所產生的離子電流與殘余氣體密度即真空度近似成比例關系。對于不同的真空管型號（管型），由于其結構不同，在同等觸頭開距、同等真空度、同等電場與磁場的條件下，離子電流的大小也不相同。通過實驗可以標定出各種管型的真空度與離子電流間的對應關系...