1質譜分析法基礎
氣體或固體、液體樣品在進樣系統氣化后進入電離室（真空度約10一～10。Pa），受到一定能量（8～100eV）的電子束（或其他電離源）轟擊后發生電離，大多數分子失去一個電子產生帶一個正電荷的分子離子。如果電子束能量較高，分子離子還可進一步裂解為碎片離子。帶正電荷的離子受到高壓（數千伏）電場的加速，加速后的動能等于其勢能．即陰離子和中性分子不進入質量分析器，而是被真空泵抽走。只有帶正電荷的離子在電場作用下以速度”進入質量分析器，在垂直于正離子飛行方向的磁場日作用下，其運動發生偏轉，作圓弧形運動，此時的向心力和離心力相等，
（1）在日、y固定時，離子的質荷比與離子在磁場中運動的軌道半徑的平方成正比。這一性質說明，磁場對于不同質荷比的離子具有質量聚焦作用。但在質譜儀的由入口狹縫到出口狹縫的軌跡R一定時，只能變更磁場或變更加速電壓，才能使一定質荷比的離子在出口處被檢測到。
（2）在R、日固定時，質荷比與加速電壓成反比。
（3）在R、y固定時，質荷比與磁場強度的平方成正比。通常，從儀器的分辨率和靈敏度及質荷比覆蓋的范圍考慮，確定加速電壓y（通常高分辨率％。；為8000～10000v，中分辨率％。為3000～4000V），然后依次改變磁場強度日，使其由小到大逐漸變化。因此，不同正電荷的離子按照質荷比由小到大順序地通過狹縫到達收集器，將此檢測信號經放大記錄下來的圖譜，稱為質譜（簡稱MS），其質譜峰的強度和收集到的離子數目成正比。
質譜分析可用于測定化合物的相對分子質量，推測分子式和結構式。可用于對氣體、液體和固體等進行分析，樣品用量少，只需1mg左右，有時幾微克甚至幾皮克就可以，分析速度快，靈敏度高。質譜分析目前在石油化工、有機合成、生物化學、天然產物、環境科學和材料化學等方面的研究中得到了廣泛的應用。
2分子離子和分子離子峰的判斷
一般分子的電離能為7—15eV，在質譜儀中轟擊分子的電子束的能量超過分子的電離能時，就可能產生分子離子M+e—M’+2e
為了提高分子離子的得率，一般采用能量比分子電離能大得多的電子束。
3質譜圖
文獻上的質譜圖，常是原始記錄譜圖的簡化，采用條圖形式。首先選擇圖中zui強的一個峰，把它的強度定為100％，這個峰稱為基峰。其他離子峰的強度與基峰作相對比較，得出其相對強度，簡稱豐度。以質荷比和豐度作圖，即為通常的質譜圖，圖5．8所示為苯甲酰胺的質譜圖。形成分子離子外，還會使化學鍵斷裂形成許多離子或分子碎片，所有正離子碎片都可產生質譜峰，故一般質譜圖中峰的數目較多，如能從中辨認出分子離子峰，由其質荷比值便可得到相對分子質量。分子離子比其他離子生成時所需的能量小，分子失去電子的作用，通常發生在zui易離子化的部位。zui易失去的常常是雜原子上的未共用的電子，其次是竹電子，再次是盯電子。確認分子離子峰的三個必要條件：
（1）一般是質譜中質量zui高的離子（同位素峰除外），但不一定zui強。
（2）必須是含奇數個電子的離子，這是因為大部分有機化合物都含偶數個電子，轟擊出一個電子，形成的分子離子就含奇數個電子。
（3）在質譜中，與分子離子峰緊鄰的碎片離子峰，必定是由分子離子符合邏輯地失去一個化學上適當的基團或小分子形成的，它們之間的質量差應是合理的。
4利用質譜確定分子式
對分子離子峰的判斷，可以得到在化學上一個極為重要的數據——相對分子質量。在此基礎上，進一步利用質譜可確定化合物的分子式。利用質譜確定分子式有兩種方法，同位素豐度法和高分辨質譜法。
5二次離子質譜
二次離子質譜（sIMS）分析中采用固體樣品，用能量離子（如lOkeV Ar’）轟擊固體樣品，從樣品表面濺射出的離子稱為二次離子。二次離子用質譜儀按質荷比分開，并用探測器記錄得到二次離子質譜（二次離子的強度（豐度）按質量（質荷比）的分布）。二次離子質譜的表示方法與質譜分析中的質譜表示方法相同。二次離子質譜是一種用于成分分析的表面和微區分析技術，因為二次離子來自樣品的zui表層（不大于2nm）。二次離子質譜成像與傳統的二次離子質譜應用領域相同，包括微電子學、材料科學、地質化學、生物、生物醫學和環境科學等。二次離子質譜成像在研究礦物和痕量元素方面更顯*，因為它以*探測極限和三維分析彌補了掃描電子顯微鏡x射線成像的不足。
在微電子學領域的應用涉及制造過程的各個方面，如雜質和污染的鑒別和分布、器件失效、離子注入三維標定以及多層結構的研究。靜態二次離子質譜常用于研究清洗過程和照相制版過程中有機物對器件的污染。用二次離子質譜研究生物系統有大量的應用。二次離子質譜像的靈敏性使它更具有重要的潛在應用價值，因為亞細胞結構中的微量元素往往對生化過程起著關鍵的作用，如果二次離子質譜儀配備冷傳輸系統和冷臺，便可對軟組織直接進行分析研究。
二次離子質譜成像也用于研究微觀顆粒和其他微觀對象。用二次離子質譜成像可以研究大氣中單一微米級顆粒物質的化學組分，揭示其表面富集元素。另一迅速興起的研究領域是用靜態二次離子質譜對有機涂層成像。由于靜態二次離子質譜中入射離子強度低，有機大分子整體或者帶有少數分子碎片被濺射出去。通過研究有機顆粒的三維分布確定在各種材料和各種工件上有機涂層的均勻一致性和結合強度。
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