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              現場直擊 | 聚焦日揚科技無錫半導體CSEAC 2025展會現場
              現場直擊 | 聚焦日揚科技無錫半導體CSEAC 2025展會現場

              現場直擊|聚焦日揚科技無錫半導體CSEAC2025展會現場無錫半導體設備年會9月4日,第十三屆半導體設備與核心部件及材料展(CSEAC2025)在無錫太湖國際博覽中心正式開幕。現場聚集了半導體全產業鏈上千家廠商,日揚科技作為半導體核心零部件與材料廠商,攜帶真空閥門、腔體、零配件、真空涂層和尾氣處理設備亮相B1-229展位現場,展臺顧客絡繹不絕,積極探討真空解決方案!展會亮點產品聚焦在APC控壓閥門...

              2025-09-05
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              • 真空鍍膜機UV鍍膜生產工藝流程

                蒸發鍍膜設備在塑料表面通過PVD技術鍍鋁,可以使塑料表面金屬化,然后噴上各種顏色,前后需要進行UV的處理,以下是UV鍍膜生產工藝的流程及參數:步:檢查線體,確認各系統(除塵、噴槍、壓縮空氣、紅外加熱和UV固化)運轉正常;第二步:清洗基材表面,去除油污(用干凈無塵布蘸白電油或異丙醇擦拭表面,并立即干燥);第三步:基材靜電除塵;第四步:噴涂底漆,膜厚:10~30微米,可根據具體基材和要求調整;第五步:在30℃~70℃的紅外環境下流平5~15分鐘;第六步:UV固化,曝光能量:600...

                20186-26
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              • 闡述真空泵標準

                標準編號標準中文名稱標準英文名稱GB/T13930-1992水環真空泵和水環壓縮機氣量測定方法Methodsforthemeasurementofvolumeflowofgasofwater-ringvacuumpumpandcompressorGB/T13929-1992水環真空泵和水環壓縮機試驗方法Methodsoftestingforwater-ringvacuumpumpsandcompressorsJB/T5971-1992(2005復審)單級多旋片式真空泵JB/T...

                20186-19
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              • 皮拉尼型真空計的原理

                皮拉尼真空計,又有翻譯派藍尼真空計。此種真空計屬于熱傳導式真空計的一種。基本原理:利用惠斯通電橋Wheatstonebridge的補償原理,其中的一燈絲作為該電路的其中一個電阻。當燈絲所在的氣體分子密度改變時,其熱導率會有所不同,因此燈絲所表現的溫度也會不同,間接影響電阻值的大小。固定電壓,固定電流以及固定溫度中以后一種方法做敏感。值得注意的是,不同氣體的熱導率不同,因此在測量的時候要刻度上需要校對。[1-2]此行真空計通過測量一發熱體與一接收發熱體之間的熱傳導程度來判斷氣體...

                20186-4
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              • 真空規管的3種分類及說明

                真空規管就是測量真空度的傳感器。真空規管測量出來的信號傳輸到真空計上經過放大處理就可以顯示出被測真空環境的真空度。主要應用于真空環境的真空度測量領域,如真空鍍膜,太陽能集熱管制作,真空冶煉等。規管的分類1、熱偶規目前國內的熱偶規主要有51系列,53B/54D等。主要應用于低真空測量。2、皮拉尼系列(電阻規管)目前國內的電阻規型號主要是52T系列。主要以用于粗低真空測量。PG-500配合表頭使用PG-600通訊型數字信號直接接入PC機PG-700開關型可以直接設定控制點,進行控...

                20185-25
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              • 影響PECVD工藝質量的因素的個原因

                影響PECVD工藝質量的因素主要有以下幾個方面:3.2.1極板間距和反應室尺寸PECVD腔體極板間距的選擇要考慮兩個因素:(1)起輝電壓:間距的選擇應使起輝電壓盡量低,以降低等離子電位,減少對襯底的損傷。(2)極板間距和腔體氣壓:極板間距較大時,對襯底的損傷較小,但間距不宜過大,否則會加重電場的邊緣效應,影響淀積的均勻性。反應腔體的尺寸可以增加生產率,但是也會對厚度的均勻性產生影響。3.2.2射頻電源的工作頻率射頻PECVD通常采用50kHz~13.56MHz頻段射頻電源,頻...

                20185-16
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              • 真空鍍膜機設備表面處理涂料

                滲透型表面處理涂料滲透型的表面處理涂料基本原理是采用滲透性強的樹脂為基,配合極性溶劑、滲透劑使得涂料具備良好的性能,并增強涂層的附著力。穩定型表面處理涂料穩定型的表面處理涂料基本原理主要是靠涂料中活性原料與銹層中活潑的成分起反應,使用比較多的活性原料有氧化鋅、磷酸鋅、鉻酸鋅、鉻酸鋇、有機氮堿鉻酸鹽,鉻酸鈣、三聚磷酸鋁、有的配方還添加亞硝酸鈉,也有認為加入鉻酸鍶是必要的。轉化型表面處理涂料轉化型表面處理涂料也叫反應型帶銹涂料,這類涂料不含成膜物質,也因為這樣所以還需要另外加底漆...

                20185-9
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              • 皮拉尼真空計的適用量程范圍

                壓力測量中,除極少數直接測量外,絕大多數是間接測量。就是先在被測氣體中引起一定的物理現象,然后再測量這一過程中與壓力有關的物理量,進而設法確定壓力值。這是真空測量的特點,亦會造成某些問題。1、真空計(Vacuumgauge)是測量低于一個大氣壓力的氣體或蒸氣壓力的儀器。2、真空計是從真空計本身測得的物理量直接計算出(或得出)壓力的儀器。3、相對真空計則是必須經過真空計的校準之后才能進行真空度的測量。任何具體物理現象與壓力的關系,都是在某一壓力范圍內才較顯著,超出這個范圍,關系...

                20184-24
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              • 減頂真空機組的組成和各部分作用

                減頂真空機組的組成和各部分作用簡介減頂壓縮機組的工作液是水,抽吸介質為:空氣、水汽、瓦斯氣等。機組由液環真空泵、電機、換熱器、氣體過濾器、氣液分離器、氣體和液體管路、羅茨泵以及各類就地及遠傳儀表組成。1、磁翻板液位計:配套有防爆液位變送器,可現場觀察氣液分離器內的液位,液位變送器可根據氣液分離器內液位高低對應4~20mA電流到DCS系統,實時監控氣水分離器的液位。2、氣液分離器:液環真空泵排出的氣、液在此分離,氣體從排氣口排出,液體留在氣液分離器內,通過泵供液管路繼續循環使用...

                20184-10
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              • 氦質譜檢漏的應用

                氦質譜檢漏小可檢漏率達5×10-12Pa·m3/s,氦質譜檢漏的使用,使板翅式換熱器的檢漏由定性考察變成了定量分析,對板翅式換熱器的選用具有指導意義。氦質譜檢漏常用的操作方法板式換熱器的體積及換熱面積較大,如果單依靠氦質譜檢漏儀抽取真空,其不能滿足檢漏口真空度的要求,這樣需要另接抽真空機組。板翅式換熱器的氦質譜檢漏一般采用噴吹法和鐘罩法,如檢查內漏還可以采用吸入法進行檢漏。1、噴吹法該方法是將被檢件接在檢漏儀的檢漏口,用儀器的真空系統對其抽真空并達到真空銜接與質譜管溝通,然后...

                20183-30
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              • 滑閥真空泵結構探索

                1.1、立式真空泵滑閥泵的結構型式有立式和臥式二種。立式結構在新設計的泵中已鮮有使用,但它也有一定的自身特點:泵在運轉中向前(后)的沖擊力比較小,絕大部分沖擊力在上、下的方向上,運轉中泵產生的前、后晃動很小。利用這一特點,只要配置合適的減振器或減振墊,就可有效減振和隔振。我們曾對H-8A滑閥泵進行振動測試,振動測試的數據也充分說明了這一點。結合上述情況,設想將電機和油氣分離器分別設置在泵的前、后側,設計成背包式,降低泵的重心,并在泵的底腳加減振墊,也許可能成為立式滑閥泵今后的...

                20183-13
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              • 皮拉尼真空計的特點及原則

                皮拉尼真空計的測量特點(1)測量壓力范圍寬,105~lO-14Pa。(2)大部分真空計是間接測量,只有壓力為105~lOPa時,可直接測單位面積所受的力。但大多數真空測量的壓力遠比上述為小,不能直接測量,應利用低壓下氣體的某些特性(如熱傳導、粘滯性和電離等)進行間接測量。(3)多采用非電量電測技術。(4)大部分真空計的讀數與氣體種類和成分有關。所以測量時要特別注意被測量氣體種類和成分.否則會造成很大誤差。(5)測量精度不高。選擇真空計原則(1)在要求的壓力區域內有要求的精度。...

                20183-5
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              • 真空泵的正確使用與保養要點

                1、經常檢查油位位置,不符合規定時須調整使之符合要求。以真空泵運轉時,油位到油標中心為準。2、經常檢查油質情況,發現油變質應及時更換新油,確保真空泵工作正常。3、換油期限按實際使用條件和能否滿足性能要求等情況考慮,由用戶酌情決定。一般新真空泵,抽除清潔干燥的氣體時,建議在工作100小時左右換真空泵油一次。待油中看不到黑色金屬粉末后,以后可適當延長換油期限。4、一般情況下,真空泵工作2000小時后應進行檢修,檢查橡膠密封件老化程度,檢查排氣閥片是否開裂,清理沉淀在閥片及排氣閥座...

                20182-2
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